鋁型材陽(yáng)極氧化的電解液一般為硫酸、草酸等具有中等溶解能力的酸性溶液。將鋁型材作為陽(yáng)極，鉛板作為陰極，通以直流電，電極反應為水的電解反應，生成初生態(tài)的氧離子，由于氧離子具有很強的氧化能力，在強大的外電場(chǎng)力作用下，會(huì )從電解液/金屬界面上向內擴散，與鋁作用形成氧化物并放出大量的熱。反應多余的氧則在陽(yáng)極以氣體狀態(tài)析出。

　　由于在酸性溶液中氧化膜的生成和溶解是同時(shí)進(jìn)行的，只有當膜的生成速度大于膜的溶解速度時(shí)，膜才不斷增厚。其形成過(guò)程可利用陽(yáng)極氧化測得的電壓一時(shí)間曲線(xiàn)進(jìn)行分析，如圖所示。

　　整個(gè)陽(yáng)極氧化的電壓一時(shí)間曲線(xiàn)大致可以分為三段

①   一段：無(wú)孔層形成通電開(kāi)始的幾至十幾秒時(shí)間內，電壓隨時(shí)間急劇上升至最大值，該值稱(chēng)為臨界電壓(或形成電壓)。說(shuō)明在陽(yáng)極上形成了連續的、無(wú)孔的薄膜層(阻擋層)。此膜具有較高的電阻，因此隨著(zhù)膜層的加厚，電阻加大，槽電壓急劇直線(xiàn)上升。無(wú)孔層的出現阻礙了膜層的繼續加厚，其厚度與形成電壓成正比，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。在普通硫酸陽(yáng)極氧化時(shí)，采用13～18V槽電壓，則無(wú)孔層厚度約為0.01～0.05μm。該段的特點(diǎn)是氧化膜的生成速度遠大于溶解速度。臨界電壓受電解液溫度的影響很大，溫度高，電解液對膜層的溶解作用強，無(wú)孔層薄，臨界電壓較低。

　?、诘诙危耗た椎某霈F陽(yáng)極電位達到最高值以后，開(kāi)始下降，其下降幅度為最大值的10%～l5%。這是由于電解液對膜層的溶解作用，使氧化膜最薄的局部產(chǎn)生孔穴，電阻下降，電壓也隨之下降。氧化膜有了孔隙之后，電化學(xué)反應可繼續進(jìn)行，氧化膜繼續生長(cháng)。

　?、鄣谌危憾嗫讓拥脑龊翊硕蔚奶卣魇茄趸瘯r(shí)間大約20s后，電壓開(kāi)始趨于平穩。此時(shí)，阻擋層生成速度與溶解速度達到平衡，其厚度保持不變，但氧化反應并未停止，氧化膜的生成與溶解仍在每個(gè)孔穴的底部繼續進(jìn)行，使孔穴底部向金屬內部移動(dòng)，隨著(zhù)時(shí)間的延長(cháng)，孔穴加深形成孔隙和孔壁。由于孔隙內電解液的存在，導電離子便可在此暢通無(wú)阻，因此在多孔層的建立過(guò)程中，電阻值的變化并不大，電壓也就無(wú)明顯的變化，反映在特性曲線(xiàn)上是平穩段。多孔層的厚度取決于工藝條件，主要因素為溫度。在陽(yáng)極氧化過(guò)程中，由于各種因素的影響，使溶液溫度不斷提高，對膜層的腐蝕作用也隨之加大，不僅孔底，也使孔口處膜層及外表面膜層的腐蝕速度加大，因此多孔層厚度增長(cháng)變慢。當孔口膜層的腐蝕速度與孔底處的成膜速度相等時(shí)，多孔層的厚度就不會(huì )再繼續增加，該平衡到來(lái)的時(shí)間越長(cháng)，則氧化膜越厚。

　　在氧化膜的生長(cháng)過(guò)程中，電滲起著(zhù)重要的作用，使電解液在膜孔內不斷循環(huán)更新。電滲產(chǎn)生的原因可解釋為：在電解液中水化了的氧化膜表面帶負電荷，而在其周?chē)娜芤褐芯o貼著(zhù)帶正電荷的離子(如由于氧化膜的溶解而存在大量的Al3+，因電位差的影響，帶電質(zhì)點(diǎn)相對于固體壁發(fā)生電滲作用，即貼近孔壁帶正電荷的液層向孔外部流動(dòng)，而外部新鮮的電解液沿孔的中心軸流入孔內，促使孔內的電解液不斷更新，從而使孔加深擴大。